二硫化钼靶材

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主要作为真空环境精密部件间相对运动的润滑层及半导体功能层薄膜的溅射原料,另可应用于半导体器件、集成电路、信息储存等电子行业。二硫化钼纯度>99.5%、致密度>98%,表面粗糙度: Ra<1.6μm.

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